半導(dǎo)體工藝氣體純化新科技

半導(dǎo)體工藝氣體純化新科技

半導(dǎo)體器件變得越來越小，幾何結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜，使用的材料越來越多，給工藝氣體的純度帶來了更大的挑戰(zhàn)。

更多的工藝步驟意味著消耗更多的工藝氣體?，F(xiàn)在，即使氣體供應(yīng)中有微量污染物，也會(huì)對(duì)芯片性能產(chǎn)生不可忽略的影響。因此，工藝氣體凈化顯的日益重要。

氣體和化學(xué)品的純度在先進(jìn)半導(dǎo)體和存儲(chǔ)設(shè)備的性能和可靠性方面發(fā)揮著重要作用。為了保持競(jìng)爭(zhēng)力，許多半導(dǎo)體制造商提高了產(chǎn)量，從而增加了氣體的總消耗量。因此，對(duì)污染物采取必要的凈化措施勢(shì)在必行。

工作流程；原料氫氣經(jīng)流量計(jì)進(jìn)入管道與原料氮?dú)庖黄疬M(jìn)入除氧器中，在鈀催化劑中充分化合，生成水汽被大量氮?dú)鈳щx除氧器經(jīng)冷卻器逐步冷卻，再由冷干機(jī)降至常溫后進(jìn)入干燥塔，氮?dú)庵兴侄急?A分子篩物理吸附而除去，純化后氮?dú)饨?jīng)氮?dú)獬隹陂y去用戶工藝點(diǎn)。

再生流程，部分純氮去單向閥前由手動(dòng)閥門被導(dǎo)向另一處于再生狀態(tài)的干燥塔，此時(shí)，再生干燥塔內(nèi)溫度升至350℃，在此溫度下，被5A分子篩吸入的水分獲得大量能量，迅速?gòu)姆肿雍Y中逸出，被導(dǎo)入塔內(nèi)的高純氮帶離分子篩，經(jīng)放空閥排出，由于程控器的控制作用，再生干燥塔繼續(xù)通入純氮（此時(shí)加熱棒停止加熱）使之冷卻至常溫，以便切換時(shí)即可進(jìn)入工作狀態(tài)。

一塔可連續(xù)工作24小時(shí)，另一塔再生加熱10小時(shí)，強(qiáng)迫吹冷14小時(shí)，當(dāng)冷卻到常溫時(shí)，手動(dòng)切換二個(gè)干燥器塔，使之連續(xù)工作(干燥塔基本采用氣動(dòng)閥自動(dòng)轉(zhuǎn)換)。

管道上有取樣閥，可連接微氧儀和微水儀進(jìn)行檢測(cè)。